Установка AS-One для быстрых термических процессов (RTP)

Система AS-One производства ANNEALSYS (Франция) для быстрых термических процессов с холодными стенками в исполнении для пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм) и до 6 дюймов (150 мм).

Применение:
Быстрый термический отжиг (RTA - Rapid Thermal Annealing)
Быстрое термическое окисление (RTO - Rapid Thermal Oxidation)
CVD графена
CVD углеродных нанотрубок
Диффузия, отжигконтактов
Послеимплантационный отжиг
Отжиг соединений полупроводников
Нитридизация, Силицидирование, Сульфиризация и Селенизация
Кристализация и Загустевание и др.

Особенности

• Быстрая термическая обработка пластин диаметром 4" и 6"
• Компактная напольная конфигурация для экономии места
• Высокая надежность и низкая стоимость владения
• Технология холодных стенок из нержавеющей стали
• Высокая воспроизводимость процесса
• Ультра чистая среда и отсутствие загрязнений
• Высокая скорость охлаждения и низкий эффект памяти
  
• Высоковакуумная версия (10-6 Торр) доступна
• Пирометр и термопара для контроля температуры
• Быстрый цифровой контроллер температуры PID
• До 5-ти газовых линий