Установка высокотемпературного отжига Zenith 100

Компактная система Zenith 100 и Zenith 150 производства ANNEALSYS (Франция) для высокотемпературных термических процессов (High Temperature RTP и CVD) для обработки пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм) и до 6 дюймов (150 мм) соотвестенно.

Применение:
Постимплантационный отжиг SiC
Получение графена высокотемпературной сублимацией SiC
Получение графена CVD методом
Температурный диапазон: от 450°C до 2000°C
Пластины до 100 мм и до 150 мм
Загрузка: ручная

Особенности

• Термическая обработка пластин до 100 мм и до 150 мм
• Малая занимаемая площадь в чистой комнате
• Температурный диапазон от 450°C до 2000°C  
• Технология холодных стенок из нержавеющей стали дающая высокую воспроизводимость процесса с ультра чистой средой и отсутствием загрязнений
• Высокотемпературные вольфрамовые нагреватели обеспечивают высокую скорость нагрева и увеличенную однородность по температуре
• Расширенный температурный диапазон, вакуум (от атмосферы до 10-6 Торр) и возможность смешивания газов делает установку Zenith 100 подходящей для большого числа RTP процессов 
• Пирометр и термопара для контроля температуры вместе с быстрым цифровым контроллером PID температуры обеспечивает высокую точность и стабильность температуры
• Ручная загрузка
• Высокая надежность и низкая стоимость владения
• Высокая воспроизводимость процесса
• Ультра чистая среда и отсутствие загрязнений
• Высокая скорость охлаждения и низкий эффект памяти
  
• До 8-ми газовых линий

Характеристики