Установка плазменной очистки COVANCE-RF от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE-RF производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея). 

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Dual Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5×100-5 Torr 

Ганератор:

• 13.56 МГц, до 300 Вт (опционально до 600 Вт)

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Применение: 
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков

Особенности

• Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)

• Вакуумный насос

• Датчик давления Pirani

• Ганератор: 13.56 МГц, до 300 Вт  (опционально до 600 Вт)

• Управление: ручное или автоматическое (PLC)

• Газовые линии - до 4 шт. (MFC)

Характеристики