Установка реактивно-ионного травления SI 591 Compact (RIE) и SI 591 (RIE)

Установки реактивно-ионного травления SI 591 Compact и SI 591 производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) с вакуумным загрузочным шлюзом.

Система травления SI 591 Compact производства SENTECH Instruments GmbH предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов сухого плазменного травления. Cистема SI 591 Compact успешно применяться для широкого спектра процессов, таких как травление III/V cтруктур, диэлектриков (SiO2, Si3N4), кремния Si,  металлов (фторная/хлорная химия) и травления фотошаблонов размером до 7х7 дюймов.

Система позволяет обрабатывать как пластины диаметром до 200 мм, так и кусочки. Мощная двухступенчатая вакуумная система позволяет быстро откачивать камеру реактора и получать достаточно глубокий вакуум для проведения процессов травления.

Особенности

• Обработка пластин диаметром до 200 мм или до 7х7 дюймов
• Процесс: RIE
• Вакуумный загрузочный шлюз
• Химия: фторна / хлорная
• Кластерная конфигурация
• Групповая обработка пластин
• Держатели для пластин меньшего размера
• Компактный дизайн и малая занимаемая площадь
• до 16 газовых линий (фторная химия)
• Программное обеспечение SENTECH control software  
• Возможность апгрейда турбомолекулярных насосов (опция)
• OES и лазерная интрферометрия

Характеристики