Система очистки фотошаблонов модели TW-300

Очистка фотошаблонов существенно влияет на качество конечного продукта. Накопленный компанией Technovision опыт помог создать системы очистки фотошаблонов, способные обеспечить высокий уровень чистоты изделий.

Отличительные особенности:

• Быстрая очистка, отмывка и сушка фотошаблонов
• Прецизионная  очистка с помощью специальных щеток, которые не оставляют царапин на поверхности и топологии фотошаблона 
• Вертикальное размещение и перемещение фотошаблонов уменьшает вероятность их ударения друг о друга 
• Идеальное решение для лабораторий и мелкосерийного производства.
• Специальные держатели образцов: универсальные и выполненные под определенный размер фотошаблонов. 

Опции:

• Узел впрыска поверхностно-активного вещества
• HEPA/ULPA фильтры
• Ионизатор
• Воздушный нож с горячим воздухом
• Модуль нагрева деионизированной воды 

Области применения: Очистка образцов, очистка пластин, очистка поверхности.

Технические характеристики: